(주)제4기한국기업정보

반도체 제조용 기계 제조업

관심기업을 설정하여 기업의 최근 소식을 받아보세요

조회수
124회
관심기업
4회
기업 키워드 검색 횟수
43회

한눈에 보는 우리 회사, 미리 확인해 보세요!

업력 34년차
1991년 2월 6일 설립
54 명

출처: 국민연금

사원수

업종: 반도체 제조용 기계 제조업
대표자명: 백태일
홈페이지: http://www.jesagi.co.kr
사업내용: 플라즈마 이온질화시스템,플라즈마 세정시스템,전자부품,컴퓨터주변기기 제조,무역
주소: 경기 시흥시 엠티브이25로58번길 17
지도보기
보유기술: 특허권
- 전구체를 이용한 플라즈마 진공 코팅 방법(2018)

특허권
- 공조라인에 설치되는 플라즈마 집진 및 공기 살균 장치(2015)

특허권
- 플라즈마 처리장치(2014)

특허권
- 플라즈마 처리장치의 전극조립체(2014)

ISO14001
- 플라즈마 크리닝장비 외

ISO9001
- 플라즈마 크리닝장비 외

기업비전

NICE 평가정보 출처 : 설립일, 업종, 대표자명, 사업내용, 주소
국민연금 출처 : 사원수
이크레더블 출처 : 보유기술
기업 직접입력 : 홈페이지, 기업비전

우리는 단단하게 성장하고 있어요

2013
- 09월
  CE획득 (Turn table Plasma System ) JSTPS-21R
2012
- 12월
  세계일류상품인증 (지식경제부)
- 07월
  Turn Table Plasma System
2011
- 10월
  PNL Flow Plasma System
2010
- 11월
  국무총리 표창(한국무역협회)
- 08월
  판넬 플라즈마 장비 개발
- 04월
  기업부설연구소 이전(안산지점)
2009
- 10월
  고밀도 플라즈마용 Plower Supply개발
- 01월
  ISO14001:20004 인증 (플라즈마 크리닝장비,디스미어장비외)
- 01월
  CE 마크 획득 (Plasma Etcher System)
2008
- 12월
  세계일류상품 인증서(지식경제부)
- 03월
  CE 획득 (Plasma Desmear System)
- 03월
  고밀도 플라즈마 세정시스템 개발
- 03월
  200KHz 고전압 Pulse Power Supply개발
- 02월
  100KHz 고전압 Pulse Power Supply개발
2007
- 10월
  CE 획득 (Flow plasma system)
- 06월
  마이크로 웨이브 플라즈마 시스템 개발
- 04월
  전자동 플라즈마 박판처리 시스템 개발
2006
- 11월
  매거진 처리용 전자동 플라즈마 시스템 개발
- 09월
  웨이퍼 자동 세정 시스템 개발
- 03월
  신기술인증서(과학기술부)
- 01월
  CE 획득 (Plasma cleaning system)
- 01월
  중국법인 설립(SUZHOU JS) 중국소주
2005
- 07월
  ISO14001:2004 획득
2004
- 10월
  ISO9001:2008 획득
- 03월
  플라즈마 임가공 처리센타 설립 (안산) PCB, Packaging, SMT
2003
- 06월
  신기술인정서 KT마크획득(과학기술부)
2002
- 10월
  듀얼 파워 플라즈마 시스템 개발
- 03월
  자동 연속 플라즈마 세정/에칭 장치개발
2001
- 08월
  플라즈마 VOC 정화장치개발/플라즈마 용융 SYSTEM 개발
- 04월
  U.V 하수 살균 장치 개발
2000
- 12월
  기술경쟁력우수기업 지정(중소기업청)
- 10월
  Noise 차폐형 특수 Transformer 개발
- 07월
  폐수처리용 고전압 Nano Pulse Power Supply개발
- 05월
  Microwave Plasma Supply 및 Plasma System개발,/200kw Pulse Plasma Power Supply개발
- 03월
  Dual Power를 이용한 반도체 Packaging용 Plasma Cleaning 공정개발/Plasma Etching공정 및 System개발
- 01월
  우수계류 부품소재 품질인증서(산업자원부)
- 01월
  PLASMA DESMEAT SYSTEDM 개발
1999
- 11월
  중앙연구소 등록(과학기술처)
- 11월
  기업부설연구소 등록(한국산업기술진흥협회)
- 07월
  POWER SUPPLY 인버터.컨버터 협력사 등록 : POSCON
- 06월
  투자회사 지정(한국산업은행)
- 06월
  발전설비 부품의 Plasma 표면경화 공정개발(Westing House 품질인증)
- 03월
  수출지원대상업체지정 (중소기업청)
- 02월
  고진공 Annealing System&공정개발(초경소결품,Zr,Ti등 특수합금속용)
1998
- 06월
  벤처기업 지정(인천지방중소기업청)
- 06월
  PLASMA CLEARING SYSTEM 개발
- 01월
  SOFT START 개발(50HP 이하)
1997
- 11월
  플라즈마 토치(고온) 개발
- 11월
  100KW PULSE POWER SUPPLY 개발
- 05월
  고진공 Annealing & 탈가스 처리시스템 & 공정개발
- 04월
  본사 이전 : 인천시 남동구 고잔동 705-9
- 02월
  고주파/고압 소형 TRANS 개발
1996
- 12월
  유망중소기업 선정(중소기업은행)
- 10월
  우수자본재 개발 표창장 수상(통상산업부)
- 09월
  3차원 표면을 위한 Plasma 표면 세정시스템 개발 스퍼터 토치(고온)개발
- 08월
  유망선진기술기업 지정 (중소기업청)
- 06월
  기술개발시범기업 지정(기술신용보증기금)
- 06월
  PVD SYSTEM 개발
- 03월
  PECVD SYSTEM개발/유해가스 정화용 Pulse Power 개발
- 03월
  CUTTING TOOL/ 개발
1995
- 12월
  기술혁신상 대상 수상 (통상산업부)
- 11월
  EM 마트 획득(플라즈마 시스템)
- 11월
  병역특례업체 지정(병무청)
- 06월
  기술혁신상 수상 (공업진흥청)
- 01월
  PULSE POWER플라즈마 이온질화기 개발
1993
- 11월
  대기압 플라즈마 세정 SYSTEM 개발
- 10월
  전해 붕화 처리 SYSTEM 개발
- 05월
  고진공 열처리로 개발
- 03월
  플라즈마 임가공처리 센타 설립(인천) PCB, Packaging, SMT
- 03월
  DC플라즈마 이온질화 SYSTEM 개발
- 01월
  상호 변경 : (주)제4기한국
1992
- 03월
  상공부지정 기계류 국산화 대상업체 선정
1991
- 12월
  플라즈마 세정/에칭/디스미어 기술개발
- 10월
  플라즈마 표면경화 기술개발
- 04월
  무역협회 가입(한국무역협회)
- 02월
  (주)태성유니버샬 설립

출처 : NICE평가정보

우리는 이렇게 구성되어 있어요

직원 남녀성비

68.7% 남성

31.3% 여성

남성직원
여성직원

사업부문 비중

기타(합계)51.4%
생기팀기계17.9%
제어팀16%
생기팀CS14.7%

기타(합계)
생기팀기계
제어팀
생기팀CS

근속 연수

평균 근속연수12.2년

업무지원 14년

연구소 13년 5개월

생기팀설계 13년

기타(합계) 8년 4개월

출처 : NICE평가정보

인원 규모를 파악해 보세요!

전체 사원수 54명

전체인원
입사자
퇴사자

연봉정보 바로가기 출처 : 국민연금

본 기업정보는 다양한 정보제공자로부터 제공된 자료를 기반으로 반영되며, 실시간 업데이트가 어려울 수 있습니다.
(주)사람인은 상기 기업정보의 정확성, 진실성, 최신성에 대하여 책임을 지지 않습니다.
*정보제공자 : NICE평가정보, 이크레더블, 금융감독원(DART), 국민연금, 기업회원(직접 수정시)
*기업정보는 사업자등록번호 기준으로 동일하게 관리 됩니다.

기업회원일 경우 직접 수정하실 수 있습니다

2024-04-16 업데이트 되었습니다

기업 직무분석 결과 보기